沃顿Vontron ULP440-MAX反渗透膜应用一：半导体行业超纯水制备行业

 

沃顿Vontron ULP440-MAX反渗透膜应用一：半导体行业超纯水制备行业

半导体行业超纯水制备对水质要求近乎苛刻，产水电导率需低于5μS/cm，且需稳定运行，沃顿ULP440-MAX反渗透膜凭借超低压、大通量、高脱盐的核心优势，成为半导体超纯水制备的核心组件。该膜采用专利梯度交联技术，聚酰胺脱盐层厚度精准控制在0.18微米，脱盐率稳定维持在99.7%以上，可高效截留水中的所有杂质离子，满足半导体芯片制造的超纯水需求。其超低压运行设计，运行压力较常规膜元件降低20%，单套日处理100吨的超纯水系统，年节省电费超15万元。同时，该膜产水量较常规产品提高20%，单支膜产水量可达42m³/d，可减少膜组件使用数量，降低系统集成成本。此外，该膜采用抗污染表面改性技术，有机物附着率降低50%，在半导体超纯水制备的预处理阶段，可稳定运行，化学清洗周期延长至4个月，大幅降低运维成本，目前已应用于国内多家大型半导体企业。